9月7日，華為手機(jī)產(chǎn)品線副總裁李小龍在微博科普了一番麒麟990 5G使用的EUV(極紫外線)光刻工藝。

李小龍贊嘆道：“這次發(fā)布的麒麟990 5G使用了EUV(極紫外線)光刻工藝，光刻設(shè)備的波長從之前的193納米縮短到了10幾納米，這在半導(dǎo)體領(lǐng)域是非常大的一個突破。正是基于這項技術(shù)，我們才能夠在約200mm2的面積下集成了103億顆晶體管，幾乎比上一代產(chǎn)品增加了一半。”

但EUV究竟是什么呢？李小龍推薦了一篇科普文章，感興趣的讀者可以前往圍觀，簡單來說，EUV是極紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography)的縮寫，常稱作EUV光刻，它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術(shù)。

麒麟990 5G采用了臺積電的7nm+ EUV工藝，此前有消息稱，蘋果的A13也已經(jīng)鎖定臺積電7nm+。

此外臺積電還透露， 正穩(wěn)步推進(jìn)下一代5nm工藝，全面應(yīng)用EUV技術(shù)，已經(jīng)開始風(fēng)險性試產(chǎn)，預(yù)計2020年第一季度量產(chǎn)。另外臺積電還有個過渡性質(zhì)的6nm工藝，基于7nm改進(jìn)而來，預(yù)計2020年第一季度試產(chǎn)，非常適合現(xiàn)有7nm工藝用戶直接升級。
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