由英國國家石墨烯研究所領(lǐng)導(dǎo)的團(tuán)隊(duì)，利用無機(jī)印模在超高真空環(huán)境中精確地將二維晶體“拾取并放置”到多達(dá)8個(gè)單層的范德華異質(zhì)結(jié)構(gòu)中，創(chuàng)建最干凈、最均勻的二維材料堆棧。該技術(shù)具有三個(gè)方面先進(jìn)性：一是原子級(jí)清潔界面，新的印模設(shè)計(jì)能夠在擴(kuò)展區(qū)域的堆疊二維材料之間創(chuàng)建原子級(jí)清潔界面，這是對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的重大改進(jìn)。二是減少應(yīng)變不均勻性，新沖壓設(shè)計(jì)提供的剛性已被證明可以大大減少組裝堆棧中的應(yīng)變不均勻性。三是可擴(kuò)展性，二維材料毫米級(jí)區(qū)域的清潔轉(zhuǎn)移，在下一代電子設(shè)備中的使用潛力大。

相關(guān)研究結(jié)果發(fā)表在《自然·電子》雜志上。

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