3月16日—17日，由國(guó)家科技部高新技術(shù)發(fā)展及產(chǎn)業(yè)化司、上海市科委共同主辦的2008年中國(guó)國(guó)際光刻設(shè)備技術(shù)論壇在上海召開(kāi)。國(guó)家科技部副部長(zhǎng)曹健林和上海市科委主任壽子琪、總工程師鈕曉鳴到會(huì)致辭。來(lái)自國(guó)內(nèi)外上百名從事光刻設(shè)備技術(shù)研究的專(zhuān)家集聚一堂，共同探討了光刻設(shè)備技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)和面臨的挑戰(zhàn)，尋求如何縮小中國(guó)光刻設(shè)備技術(shù)與國(guó)際先進(jìn)水平間的差距。

　　光刻設(shè)備是集成電路制造中的最關(guān)鍵設(shè)備，決定了集成電路制造的工藝水平。國(guó)際光刻設(shè)備技術(shù)一直通過(guò)不斷創(chuàng)新快速向前發(fā)展，以滿足集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的需要。近幾年中國(guó)光刻設(shè)備市場(chǎng)快速增長(zhǎng)，推動(dòng)了科研院所和企業(yè)在光刻技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)研究和光刻設(shè)備的研發(fā)，成果不斷涌現(xiàn)。這次國(guó)際論壇的召開(kāi)為國(guó)內(nèi)外從事光刻設(shè)備技術(shù)研究的科技人員提供了一個(gè)很好的交流平臺(tái)，將進(jìn)一步推動(dòng)我國(guó)光刻設(shè)備技術(shù)的發(fā)展。